יישומי בדיקת רקיק

Applied Physics מספק כדורי PSL וחלקיקי תהליך עבור יישומי בדיקת הפרוסים שלך. חברות, כגון KLA-Tencor, TopCon, ADE, Hitachi משתמשות בכדורי PSL כדי לכייל את עקומות התגובה לגודל של מערכות הבדיקה המתאימות. חברות סמיקונדקטור רבות משתמשות ב-Process Particles כדי ליצור עקומות תגובה של גודל החלקיקים עבור כלי בדיקת הפרוסים שלהן, כמו גם בחלקיקי תהליך כדי לאתגר את כלי ה-WET Bench שלהם כדי לראות עד כמה ה-WET Bench יעיל בהסרת חלקיקים אמיתיים בתנאים מבוקרים. כדורי PSL הם כדוריים ומיוצרים בקטרים ​​ספציפיים, בעוד שחלקיקי תהליך אינם אחידים בגודל ובצורה, ומגיעים במגוון של חלקיקי תהליך, כפי שנדון בחלק האחרון של דף זה.

PSL ספירות - רכשו ספירות PSL

מערכות לבדיקת רקיק, המכונה גם מערכות לבדיקת משטח סריקה, (SSIS) משמשות לבדיקת ניקיון משטח הפרוסות; או סיליקון חשוף או משטח מופקד בסרט. ה-SSIS יכול לזהות את מיקום ה-X/Y של החלקיקים ולתאר את הגודל של כל חלקיק וכן את הספירה הכוללת על פני הפרוסה. מערכות בדיקת פרוסות KLA-Tencor, כגון Tencor 6200, 6420 ו-KLA-Tencor SP1, SP2 ו-SPX, משמשות בכל תעשיית המוליכים למחצה עבור יישום זה. ל-Topcon יש את מערכות בדיקת הוופל מסדרות 3000, 5000 ו-7000. Estek, ADE, Aeronca ו-Hitachi מספקות גם מגוון מערכות בדיקת פרוסות. כמעט כל SSIS המיוצר כיום מסוגל לזהות ב-40 ננומטר או יותר רגישות לגודל החלקיקים. כדורי PSL משמשים לייצוג החלקיקים על משטח הפרוסות. Applied Physics מציע גדלי PSL מ-40 ננומטר בערך עד 4um. ניתן להזמין את ה-PSL Spheres בשלוש גרסאות שימוש.

כדוריות PSL משמשות עם מערכות הפחתת רקיק PSL לייצור תקני רקיק PSL, המכונים גם תקני פרוסות חלקיקים. בשני המקרים, לאחר שהוופל מיוצר על ידי אחד הכלים הללו מ- VLSI, ברמלי דרום, JSR, MSP, תקן הוופל ממוקם אז על מערכת בדיקת רקיק וסורק על ידי SSIS לייזר יחיד או SSIS לייזר כפול. תשובת גודל PSL בפועל מושווה לתגובת גודל SSIS. אם שתי הפסגות אינן תואמות, יש לכייל את ה- SSIS.

ריכוז נמוך מעורבב מראש למערכות בתצהיר PSL המיוצר רק על ידי מוצרי JSR, ברומלי דרום ומוצרי ה- PDS של VLSI הישנים.

ספירות PSL מעורבות מראש בריכוז גבוה מיועדות למערכות רקיק MSP 2300B, 2300C, 2300D, 2300XP1 / XP2 ו- 2300 NPT-1.

כדורי PSL לא מעורבים, בדרך כלל בריכוז 1%.

כדוריות ה- PSL המעורבות מראש מגיעות בבקבוק 50ml, מונו בפיזור בגודל (חלוקת גודל 1), ומסופקות בערך מ- 47nm ל- 950nm. תמיסת PSL זו מוזגת ישירות לכלי הנבוליזרי או למרסס. מעורבב מראש הוא דרך נוחה לרכוש את כדוריות ה- PSL, מכיוון שכל הדילול נעשה בצורה אחידה מאוד, ללא מוס, ללא מהומה, מה שמאפשר למשתמש לא להתמודד עם ערבוב חומר ה- PSL באמצעות כוסות, מים DI ואולטרה סאונד. מגשים.

חומר ה- PSL הלא מעורב מסופק בבקבוק 15ml, מונו מפוזר בגודלו (חלוקת גודל 1), ובדרך כלל בריכוז 1%. תחומי PSL אלה ניתנים במגוון רחב של גדלים, אך לענייננו, מ- 20nm ל- 4um בגודל. יש לערבב את חומר ה- PSL לדילול נכון, או שהוא יהיה מרוכז או חלש מדי בכדי לספק תוצאות אפקטיביות כשמנסים להפקיד על ידי אחת ממערכות ההפקדה של PSL Wafer לעיל.

חלקיקי תהליכים - חלקיקי תהליכי רכישה

חלקיקי תהליכים ניתנים כחלקיקים Si, SiO2, Al2O3, TiO2, Si3N4, Ti, W, Cu, Ta בתמיסה של DiH2O. החלקיקים הם בעלי אינדקס שבירה ספציפי, שונה מ- PSL. החלקיקים אינם אחידים בגודלם ובצורתם, מספקים אינדקס שבירה שונה מזה של כדוריות PSL. ניתן להשתמש בחלקיקים ליצירת עקומת תגובה בגודל אמיתי עבור סוג מסוים של חלקיק; או ניתן להשתמש בהם כדי להפקיד על משטח רקיק כדי לאתגר את יעילות הניקוי של ספסל WET. החלקיקים מוצעים בסוגים שתוארו לעיל, ומסופקים בתמיסת מים DI, 100 מ"ל. החלקיקים הם בפיזור פולי בגודל (פסגות רבות בגודל באותו בקבוק). ניתן להזמין טווחי גודל מסוימים של חלקיקים בין 40nm ל- 200nm, 200nm עד 500nm ו- 500nm עד 1um בגודל.